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SEN特殊光源紫外線表面清洗的原理
日期：2025-08-23 22:24
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摘要：
SEN特殊光源紫外線表面清洗是近年來新興的清洗方法。紫外線表面清洗法不同于原有清洗法，沒有污水，污氣產(chǎn)生。是高能環(huán)保型清洗**方法。廣泛運用于LCD,PCB，點子，印刷，塑膠，玻璃，涂裝等領(lǐng)域。
紫外線清洗是是利用有機化合物的光敏氧化作用達(dá)到去除附著在材料表面的有機物質(zhì)。經(jīng)過廣清洗后的材料表面可以達(dá)到高清潔度。
其主要原理為紫外線燈發(fā)出的 185nm波長和254nm波長具有很高的能量，高于大多數(shù)有機物的結(jié)合能量。由于大多數(shù)碳?xì)浠衔飳?85nm波長的紫外線具有較強的吸收能力，并且可以在吸收185nm波長后分解成例子，流利態(tài)院子，受激分子和中子等，這就是光敏作用。空氣中的氧分子在吸收了185nm波長的紫外光后，會產(chǎn)生臭氧和氧氣，臭氧對254nm波長具有很強的吸收性，臭氧有可以分解為氧原子和氧氣。氧原子具有極強的氧化性，可以將碳?xì)浠湘I切斷，生成水，二氧化碳等易揮發(fā)氣體，從被照射物表面飄逸出，徹底**物體表面的污染物。這就是紫外線清洗的原理。
