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它是一種延遲測量設(shè)備，支持所有類型的薄膜，例如用于 OLED 的偏光板、層壓延遲膜和帶有 IPS 液晶延遲膜的偏光板。 實現(xiàn)與超高Re.60000 nm兼容的高速、高精度測量。 可以“無損、無剝離”地測量薄膜的層壓狀態(tài)。 此外，它還配備了簡單的軟件和校正功能，支持因樣品重新定位而導(dǎo)致的錯位，可輕松實現(xiàn)高精度測量。
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它是一種可以在薄膜生產(chǎn)現(xiàn)場在線測量薄膜厚度的設(shè)備。 通過將開創(chuàng)的光譜干涉技術(shù)與新開發(fā)的高精度膜厚計算處理技術(shù)相結(jié)合，可以以至少0.01的測量間隔測量寬度為500mm（使用一臺時）的膜厚秒。
