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代理日本品牌：OTSUKA大塚電子（薄膜測厚儀、相位差膜設備等）、USHIO牛尾點光源、CCS檢查光源、Aitec艾泰克、REVOX萊寶克斯、ONOSOKKI小野測器、YAMATO雅馬拓、KOSAKA小坂臺階儀、SEN特殊光源、TSUBOSAKA壺坂電機、NEWKON新光、TOKISANGYO東機產業、tokyokeiso東京計裝、leimac雷馬克、MIKASA米卡薩勻膠機、COSMO科斯莫、SAKURAI櫻井無塵紙、TOE東京光電子、EYE巖崎UV燈管、SANKO山高、HOYA豪雅光源、日本IMV愛睦威地震儀、HOKUYO北陽電機、SAKAGUCHI坂口電熱、ThreeBond三鍵膠水等.

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Otsuka大塚多樣品納米顆粒直徑測量系SAQLA

■納米SAQLA的特點一臺儀器可輕松連續測量 5 個樣本，無需自動采樣器即可實現多個樣本的連續測量，也可以通過改變每個樣本的條件進行測量。支持從稀釋到厚系統標準測量時間 1 分鐘的高速測量自動調整從厚系統到稀薄樣品的*佳測量位置，實現約 1 分鐘的高速測量簡單易懂的測量功能（只需單擊一下即可開始測量），無需復雜的操作內置非浸沒式細胞塊，無分包的無孔，每個細胞都是獨立的，因此無需擔心不成問題。配備溫度梯度功能，可輕松設置溫度
代理Otsuka大塚顆粒尺寸分子量測量 ELSZ-2000S

特點 *新的高靈敏度 APD 可提高靈敏度并縮短測量時間通過自動溫度梯度測量進行變性/相變溫度分析可在 0 至 90°C 的寬溫度范圍內進行測量增加了廣泛的分子量測量和分析功能支持懸浮高濃度樣品的顆粒尺寸測量
蘇州代理Otsuka大塚澤塔電位測量系統 ELSZ-2000Z

特點 *新的高靈敏度 APD 可提高靈敏度并縮短測量時間通過自動溫度梯度測量進行變性/相變溫度分析可在 0 至 90°C 的寬溫度范圍內進行測量支持懸浮高濃度樣品的Zeta電位測量通過測量和繪圖分析，提供高精度的 Zeta 電位測量結果，用于測量單元中的電滲透流支持高鹽濃度溶液的Zeta電位測量支持小面積樣品的平板Zeta電位測量
蘇州塔瑪薩崎代理Otsuka大塚澤塔電位ELSZ-2000ZS

特點 *新的高靈敏度 APD 可提高靈敏度并縮短測量時間通過自動溫度梯度測量進行變性/相變溫度分析可在 0 至 90°C 的寬溫度范圍內進行測量增加了廣泛的分子量測量和分析功能支持懸浮高濃度樣品的顆粒直徑和Zeta電位測量通過測量和繪圖分析，提供高精度的 Zeta 電位測量結果，用于測量單元中的電滲透流支持高鹽濃度溶液的Zeta電位測量支持小面積樣品的平板Zeta電位測量
代理Otsuka大塚澤塔電位ELSZneo

從稀釋到濃縮的溶液（~40%）*1可在廣泛的濃度范圍內測量顆粒大小和 Zeta 電位多角度測量可實現高分離粒徑分布的測量可在高鹽濃度下測量平板樣品的Zeta電位使用靜態光散射法測量顆粒濃度動態光散射法可實現微流變測量通過多點測量凝膠樣品，可以評估凝膠的網狀結構和異質性標準流單元可連續測量顆粒大小和 Zeta 電位可在 0 至 90°C 的寬溫度范圍內進行測量溫度梯度功能允許蛋白質的變性和相變溫度分析通過測量和繪圖分析，提供高精度的 Zeta 電位測量結果，用于測量單元中的電滲透流可安裝熒光切割過濾器（可選）
塔瑪薩崎Otsuka大塚分析儀器

使用單個設備分析不同的成分，如陽離子和陰離子。微量樣品可實現短時間、高分辨率的分析。
塔瑪薩崎Otsuka大塚光譜輻射計

評估光源在紫外區域的輻射強度。 ? 通過光譜輻射測量高精度測量亮度，支持紫外、可見、紅外和廣泛的測量波長范圍，可實現光生物學**評估這是一個有限的設備，可以測量紫外線的亮度。
塔瑪薩崎光譜儀

評估紫外 LED 的輻射束。 ? 高性能紫外 LED 的輸出評估與溫度控制單元結合使用時，溫度評估支持紫外線 LED 的光學特性評估，預計這些特性是**、凈化和樹脂固化。
塔瑪薩崎Otsuka大塚測量儀器

基于與 NIMS 共同開發的單粒子診斷方法進行測量。* ? 與國家材料科學研究所研究員高崎正彥和武田高富史合作
塔瑪薩崎Otsuka大塚光譜儀

多功能多通道光譜探測器，支持從紫外到近紅外區域。光譜測量可在 5 毫秒內進行。標準儀器的光纖支持各種測量系統，無需識別樣品類型。除了顯微分光、光源發射、透射和反射測量外，它還與軟件相結合，支持物體顏色評估和薄膜厚度測量。
塔瑪薩崎Otsuka大塚厚度計

在晶圓等研磨和拋光過程中，我們以超高速和高精度測量晶圓和樹脂的厚度。
塔瑪薩崎Otsuka大塚光譜儀

除了能夠進行高精度薄膜分析的光譜橢圓測量外，我們還通過安裝測量角度的自動可變機制，支持各種薄膜。除了傳統的旋轉分析儀方法外，還通過設置緩速板的自動解吸機制，提高了測量精度。
塔瑪薩崎Otsuka大塚測量儀器

我們的 MCPD 系列內聯薄膜評估系統采用光學類型，可在非接觸式和無損條件下檢測薄膜厚度、濃度和顏色。可測量薄膜厚度范圍為 65nm 至 92μm，從薄膜到厚膜。（折射率為1.5時）測量原理為分光干涉方式，在實現高測量再現性的同時，還支持多層厚度測量。由于采用專有算法可實現高速實時監控，因此我們提出了*適合在線膠片監視器的系統。
塔瑪薩崎Otsuka大塚膜厚儀

我們的 MCPD 系列采用柔性光纖，可集成到從原位到內聯的各種位置和應用。由于測量原理采用光譜干涉系統，因此在實現高測量可重復性的同時，還支持多層厚度測量。采用專有算法，可實現高速實時監控。
塔瑪薩崎Otsuka大塚

OPTM（Optim）是一種利用顯微分光在微區域進行**反射率測量，可實現高精度薄膜厚度和光學常數分析的裝置。涂層膜的厚度和多層膜（如各種薄膜、晶圓和光學材料）可以無損或非接觸式測量。測量時間可以高速測量 1 秒/點。此外，它配備了一個軟件，即使是初學者可以很容易地分析光學常數。
塔瑪薩崎Otsuka大塚光度計

固體激光器和高靈敏度探測器（冷卻光電倍增管）可用于測量 0.5nm 至 5000nm 顆粒的顆粒大小分布（顆粒大小和顆粒大小分布）。

蘇公網安備 32050502000409號