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leimac雷馬克RGB 全彩照明IDDA-KH150RGBHV

根據檢測目的自由混合發光顏色在一臺照明中復合安裝紅色、藍色和綠色 LED。紅、藍、綠三波長復合，成為可見光的全彩照明，可覆蓋非常寬的波長范圍。由于可以獨立調光每個波長，因此可以實現微妙的復合照明顏色。
leimac雷馬克全彩照明IDDA-KH120RGBHV

根據檢測目的自由混合發光顏色在一臺照明中復合安裝紅色、藍色和綠色 LED。紅、藍、綠三波長復合，成為可見光的全彩照明，可覆蓋非常寬的波長范圍。由于可以獨立調光每個波長，因此可以實現微妙的復合照明顏色。
leimac雷馬克IDDA-KH80RGBHV RGB 全彩照明

根據檢測目的自由混合發光顏色在一臺照明中復合安裝紅色、藍色和綠色 LED。紅、藍、綠三波長復合，成為可見光的全彩照明，可覆蓋非常寬的波長范圍。由于可以獨立調光每個波長，因此可以實現微妙的復合照明顏色。
leimac雷馬克全彩照明IDDA-KH150RGBRGB

根據檢測目的自由混合發光顏色在一臺照明中復合安裝紅色、藍色和綠色 LED。紅、藍、綠三波長復合，成為可見光的全彩照明，可覆蓋非常寬的波長范圍。由于可以獨立調光每個波長，因此可以實現微妙的復合照明顏色。
leimac雷馬克IDDA-KH120RGB RGB 全彩照明

根據檢測目的自由混合發光顏色在一臺照明中復合安裝紅色、藍色和綠色 LED。紅、藍、綠三波長復合，成為可見光的全彩照明，可覆蓋非常寬的波長范圍。由于可以獨立調光每個波長，因此可以實現微妙的復合照明顏色。
leimac雷馬克RGB 全彩照明IDDA-KH80RGB

根據檢測目的自由混合發光顏色在一臺照明中復合安裝紅色、藍色和綠色 LED。紅、藍、綠三波長復合，成為可見光的全彩照明，可覆蓋非常寬的波長范圍。由于可以獨立調光每個波長，因此可以實現微妙的復合照明顏色。
leimac雷馬克全彩照明IMAR-80RGBHV

在一臺照明中復合安裝紅色、藍色和綠色 LED。紅、藍、綠三波長復合，成為可見光的全彩照明，可覆蓋非常寬的波長范圍。由于可以獨立調光每個波長，因此可以實現微妙的復合照明顏色。
leimac雷馬克全彩照明IMAR-130RGB

根據檢測目的自由混合發光顏色在一臺照明中復合安裝紅色、藍色和綠色 LED。紅、藍、綠三波長復合，成為可見光的全彩照明，可覆蓋非常寬的波長范圍。由于可以獨立調光每個波長，因此可以實現微妙的復合照明顏色。
leimac雷馬克全彩照明IMAR-110RGB

根據檢測目的自由混合發光顏色在一臺照明中復合安裝紅色、藍色和綠色 LED。紅、藍、綠三波長復合，成為可見光的全彩照明，可覆蓋非常寬的波長范圍。由于可以獨立調光每個波長，因此可以實現微妙的復合照明顏色。
leimac雷馬克全彩照明IMAR-80RGB

根據檢測目的自由混合發光顏色在一臺照明中復合安裝紅色、藍色和綠色 LED。紅、藍、綠三波長復合，成為可見光的全彩照明，可覆蓋非常寬的波長范圍。由于可以獨立調光每個波長，因此可以實現微妙的復合照明顏色。
leimac雷馬克偽同軸落射照明IFVB-20_HV

模擬同軸投影照明，實現高照度、高均勻性、緊湊的外殼半鏡可以照射到與相機軸相同的軸上。與 IFVA 系列相比，半鏡的改進大大提高了分辨率。由于可以進行正反射檢查，因此對表面細劃痕的檢查、打印和字符檢查有效。可用于各種應用，如電路板圖案檢查和連接器引腳間距測量。
leimac雷馬克偽同軸落射照明IFVB-20

模擬同軸投影照明，實現高照度、高均勻性、緊湊的外殼半鏡可以照射到與相機軸相同的軸上。與 IFVA 系列相比，半鏡的改進大大提高了分辨率。由于可以進行正反射檢查，因此對表面細劃痕的檢查、打印和字符檢查有效。可用于各種應用，如電路板圖案檢查和連接器引腳間距測量。
leimac雷馬克照明設備 IFVA-40_HV-ST

直模擬同軸落射照明，實現高光、高均勻度和緊湊的外殼使用半透半反鏡，可以在垂直于攝像機軸的軸上進行照射和成像。與 IFVA 相比，在高度方向上的空間更少，從而節省空間。由于可以進行正反射檢查，因此對表面細劃痕的檢查、打印和字符檢查有效。可用于各種應用，如電路板圖案檢查和連接器引腳間距測量。
leimac雷馬克照明設備 IFVA-70_-ST

直模擬同軸落射照明，實現高光、高均勻度和緊湊的外殼使用半透半反鏡，可以在垂直于攝像機軸的軸上進行照射和成像。與 IFVA 相比，在高度方向上的空間更少，從而節省空間。由于可以進行正反射檢查，因此對表面細劃痕的檢查、打印和字符檢查有效。可用于各種應用，如電路板圖案檢查和連接器引腳間距測量。
leimac雷馬克直模擬同軸落射照明IFVA-50_-ST

直模擬同軸落射照明，實現高光、高均勻度和緊湊的外殼使用半透半反鏡，可以在垂直于攝像機軸的軸上進行照射和成像。與 IFVA 相比，在高度方向上的空間更少，從而節省空間。由于可以進行正反射檢查，因此對表面細劃痕的檢查、打印和字符檢查有效。可用于各種應用，如電路板圖案檢查和連接器引腳間距測量。
leimac雷馬克光源箱IFVA-40W-ST

直模擬同軸落射照明，實現高光、高均勻度和緊湊的外殼使用半透半反鏡，可以在垂直于攝像機軸的軸上進行照射和成像。與 IFVA 相比，在高度方向上的空間更少，從而節省空間。由于可以進行正反射檢查，因此對表面細劃痕的檢查、打印和字符檢查有效。可用于各種應用，如電路板圖案檢查和連接器引腳間距測量。

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