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產品詳情
簡單介紹：
小直徑晶片多片處理用等離子體CVD裝置
詳情介紹：
概述
PD-3800L 是一種大規模生產的等離子 CVD 設備，可在 ±360mm 的大面積托盤中同時安裝多個小直徑晶圓。 配備負載鎖室，工藝穩定性好。 各種硅基薄膜（SiO+、SiN、非晶硅等）可以形成，作為化合物半導體和硅工藝中的層間絕緣膜和鈍化膜。
特點
可在小直徑晶圓的多片同時成膜
×360mm的大面積托盤中同時成膜多張小直徑晶圓。 （φ2“×26張、φ3”×12張、φ4“×7張、φ6”×3張）
優異的托盤面內均勻性
獨特的反應室結構，實現了優異的面內均勻性和批次間穩定性。
負載鎖定室可實現
穩定的工藝。
應用示例
可以形成
氮化硅膜、氧化硅膜和非晶硅膜，形成各種硅基薄膜。
選項
晶圓移載機允許在盒式?托盤之間自動輸送，從而節省勞動力并提高產量。
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