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代理日本品牌：OTSUKA大塚電子（薄膜測厚儀、相位差膜設備等）、USHIO牛尾點光源、CCS檢查光源、Aitec艾泰克、REVOX萊寶克斯、ONOSOKKI小野測器、YAMATO雅馬拓、KOSAKA小坂臺階儀、SEN特殊光源、TSUBOSAKA壺坂電機、NEWKON新光、TOKISANGYO東機產業、tokyokeiso東京計裝、leimac雷馬克、MIKASA米卡薩勻膠機、COSMO科斯莫、SAKURAI櫻井無塵紙、TOE東京光電子、EYE巖崎UV燈管、SANKO山高、HOYA豪雅光源、日本IMV愛睦威地震儀、HOKUYO北陽電機、SAKAGUCHI坂口電熱、ThreeBond三鍵膠水等.

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產品名稱：上海代理OTSUKA大塚無損非接觸膜厚儀
產品型號：FE-300
產品廠商：OTSUKA大塚電子
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簡單介紹：

塔瑪薩崎電子（蘇州）有限公司上海代理OTSUKA大塚無損非接觸膜厚儀FE-300薄膜厚度計，通過操作簡單的高精度光學干涉測量實現薄膜厚度測量。

詳情介紹：

塔瑪薩崎電子（蘇州）有限公司上海代理OTSUKA大塚無損非接觸膜厚儀FE-300薄膜厚度計，通過操作簡單的高精度光學干涉測量實現薄膜厚度測量。

OTSUKA大塚FE-300使用一體式外殼，在主機中存儲必要的設備，以實現穩定的數據采集。

OTSUKA大塚FE-300特長

支持從薄膜到厚膜的各種膜厚
使用反射光譜的薄膜厚度分析
實現非接觸、非破壞的***測量，同時緊湊且價格低廉
簡單的條件設置和測量操作！任何人都可以輕松測量薄膜厚度
可以通過峰谷法、頻率分析法、非線性***小二乘法、優化法等進行多種薄膜厚度測量。
通過非線性***小二乘膜厚分析算法可以進行光學常數分析（n：折射率，k：消光計數）。

測量項目

反射率測量

膜厚分析（10層）
光學常數分析（n：折射率，k：消光計數）

測量對象

功能膜、塑料
透明導電膜（ITO、銀納米線）、相位差膜、偏光膜、AR膜、PET、PEN、TAC、PP、PC、PE、PVA、粘合劑、粘合劑、保護膜、硬涂層、防指紋， ETC。
半導體
化合物半導體、Si、氧化膜、氮化膜、Resist、SiC、GaAs、GaN、InP、InGaAs、SOI、藍寶石等
表面處理
DLC涂層、防銹劑、防霧劑等
光學材料
濾光片、AR涂層等
FPD
LCD（CF、ITO、LC、PI）、OLED（有機膜、灌封膠）等
其他
硬盤驅動器、磁帶、建筑材料等。

測量原理

大冢電子使用光學干涉儀和我們自己的***分光光度計，實現了非接觸、無損、高速和***的薄膜厚度測量。光學干涉法是一種利用OTSUKA大塚FE-300分光光度計的光學系統獲得的反射率來確定光學膜厚的方法。以涂在金屬基材上的薄膜為例，如圖1所示，從目標樣品上方入射的光被薄膜（R1）表面反射。此外，通過薄膜的光在基板（金屬）和薄膜界面（R2）處反射。測量此時由于光程差引起的相移引起的光學干涉現象，并根據得到的反射光譜和折射率計算膜厚的方法稱為光學干涉法。分析方法有四種：峰谷法、頻率分析法、非線性***小二乘法和優化法。

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產品名稱：上海代理OTSUKA大塚無損非接觸膜厚儀